【北區分享】【資通技術】積層式3D天線製造技術
工研院開發出創新的雷射誘發金屬化製程(Laser-Induced Metallization;LIM)與天線設計技術,包括縮小化3D多頻天線設計技術、積層式LIM製程開發、以及高分子奈米觸發膠體配方。
工研院設計將集總晶片電容電感元件,以積層式LIM製程直接整合於天線結構當中,同時開發關鍵的奈米膠體觸發材料,取代德國LDS製程特定射出塑料,最小線寬可達30m,且不受基材種類限制(陶瓷、金屬、玻纖混合物均可適用),不但可做為標準化積層式3D天線製程(雷射/噴塗/化鍍)的開發,更可率先應用於改善智慧終端關鍵通訊天線效能。
全文連結:https://www.itri.org.tw/chi/Content/MSGPic01/contents.aspx…
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