新冠肺炎疫情帶動遠距工作需求，致電子業大徵才，日月光半導體製造之製程工程師薪資最高則可達100K。
#新冠肺炎 #半導體 #徵才
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【中科園區8月1日聯合徵才 最高薪資上看83K】
【記者林獻元／台中報導】後疫情時代拚經濟！台中市政府勞工局攜手科技部中部科學園區管理局，8月1日上午10時至下午2時將在中科管理局1樓(西屯區中科路2號)舉辦「2020薪有所屬-前進中科‧啟動未來」中科園區廠商聯合徵才活動，邀請台積電、台灣美光、矽品精密、橋椿金屬與和大工業等20家科學園區廠商參加，提供逾700個工作機會，最高薪資上看8萬3，000元，歡迎求職民眾把握機會踴躍參加。
勞工局長吳威志表示，中部科學園區是台中的科技工業重鎮，產業包含光電、半導體、精密機械及生物科技等，是許多應屆畢業生及擁有科技夢想求職者的理想工作園區，每年總是吸引大量求職者尋職。
這次活動邀請到「台灣半導體龍頭」台積電、「全國齒輪製造第一大廠」和大工業及「台灣地區第二大品牌隱形眼鏡製造商」永勝光學(海昌眼鏡)等大廠，現場提供逾700個工作機會，其中「世界級封測大廠」矽品精密工業更是一口氣釋出超過170個職缺，並開出最高薪資8萬3，000元的製造主管職缺吸引人才。
吳威志指出，為做好防疫及擴大就業媒合，這次活動採實體面試與視訊面試雙軌並行，讓因受疫情影響或距離因素不克前往現場的民眾，也有機會與廠商線上面試，求職者只需在活動前上網預約，就可直接在家與廠商視訊面試，打破距離與疫情的限制。
台中市就業服務處代理處長許淑玲表示，適逢畢業求職旺季，為了促進青年就業，活動現場還規劃「就業金安薪專區」提供青年穩定就業及跨域就業獎勵金，並設置「履歷棚拍」及「職涯諮詢」專區，提供免費拍攝大頭照及履歷健診、面試技巧指導與職涯規劃等服務，幫助青年求職朋友掌握求職優勢。
許淑玲也提醒，活動現場仍將實施體溫檢測及酒精消毒等防疫措施，呼籲民眾務必自行佩戴口罩前往，如遇發燒、咳嗽及感冒等不適情況，應及早就醫或在住家休息，切勿前往會場。
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世界級封測大廠矽品精密工業，將於5月29日上午9時至下午3時30分在矽品中科廠區徵才，釋出超過50個工程師職缺，月薪最高逾6萬元，求職民眾把握機會。
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#矽品中科廠區徵才 #矽品精密工業 #積體電路封裝
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矽品精密工業 在 [新聞] 俄要在2028年量產7奈米製程微影曝光設備- 看板Stock 的必吃
原文標題：
戰鬥民族放大絕！俄羅斯 2028 年要量產 7 奈米製程微影曝光設備
原文連結：
https://reurl.cc/yM5ZAq
發布時間：
2022 年 10 月 24 日 7:00
記者署名：
作者 Atkinson
原文內容：
Tomshardware 報導，一家俄羅斯研究單位正在研究開發半導體微影曝光設備，預計可生
產 7 奈米製程晶片。計畫 2028 年完成，可能比 ASML Twinscan NXT:2000i 效能更高。
而 ASML 開發 Twinscan NXT:2000i 花了超過 10 年。
2 月 24 日俄烏戰爭爆發後，美國、英國和歐盟制裁俄羅斯，禁止幾乎所有先進晶圓廠與
俄羅斯合作。台灣也迅速禁止向俄羅斯供應先進晶片。英國制裁下，Arm 也不能將新半導
體矽智財權授權俄羅斯晶片設計廠商。故俄羅斯政府推出國家計畫，2030 年要自己開發
28奈米製程技術，並盡可能逆向工程歐美晶片取得技術，也要培養本地人才自製晶片。
俄羅斯想 2030 年量產 28 奈米仍很困難，俄羅斯最先進晶圓廠可製造 65 奈米製程晶片
，且美國等制裁，歐美半導體設備製造商也無法供應半導體設備。俄羅斯想量產 28 奈米
，必須自己設計建造晶圓生產設備，8 年內完成 ASML 和應用材料（Applied Materials
）花了幾十年才有的成果。
俄羅斯計畫由俄羅斯科學院下屬俄羅斯應用物理研究所（Russian Institute of
Applied Physics，IAP）超越所有人預期，到 2028 年研發且量產有 7 奈米製造能力的
微影曝光設備。但晶圓現代微影曝光設備高度複雜，牽涉到高效能光源、精密光學、精確
計算等關鍵零組件，但俄羅斯最頂尖應用物理研究機構，IAP 相信自己可以短時間開發出
工具。
俄羅斯想量產的設備與 ASML 或 NIKON 等不同。IAP 計劃使用大於 600W 的光源，曝光
波長為 11.3 奈米（EUV 波長為13.5 奈米），需要比現在更複雜的光學元件。因光源功
率相對較低，體積更緊湊，更容易製造，但代表微影曝光設備晶片產量將大大低於現代深
紫外（DUV）微影曝光設備。IAP 表示這不會是問題。
32 奈米以下製程，目前主流是沉浸式微影曝光設備。ASML 於 2003 年底推出第一款沉浸
式微影曝光設備 Twinscan XT:1250i，並在 2004 年第三季交貨，生產 65 奈米邏輯晶片
和 70 奈米等級 DRAM。之後花了約 5 年 2008 年底宣布推出支援 32 奈米的 Twinscan
NXT:1950i 沉浸式微影曝光設備，2009 年交貨。
以上代表技術領先者 ASML 約花 9 年才在 2018 年交貨支援 7 奈米和 5 奈米製程的
Twinscan NXT:2000i DUV。再從 ASML 產品發展歷程看，從 65 奈米發展到 7 奈米，總
計花了 14 年。現在沒有任何經驗或與晶片製造商沒有任何關係的俄羅斯 IAP，打算 6
年從頭製造支援 7 奈米製程的微影曝光設備，聽起來實在不可行，但 IAP 充滿熱情。
俄羅斯科學院微結構物理研究所副所長 Nikolai Chkhalo 表示，全球微影曝光技術領導
者 ASML 近 20 年來一直在開發 EUV 微影曝光設備，且非常複雜，但 ASML 目標是保持
世界最大晶圓廠極高生產力。俄羅斯為科學技術發展，沒人需要如此高生產力。IAP 將從
俄羅斯國內需求和任務出發，微電子學不是數量，而是品質。需轉移到自己的製造技術，
自己訂定設計標準，自己發展工具、工程、材料。走自己的路不可避免。
據發展時程，IAP 計畫 2024 年前建造功能齊全的首代微影曝光設備設備，不必具備高生
產率或最大解析度，只要能運作，對潛在投資者有吸引力。之後 IAP 打算 2026 年前製
造有更高生產力和解析度的微影曝光設備測試版。這時這套機器應該可量產晶圓，但生產
力不會達最大。終極版 2028 年問世，不但能取得高性能光源，且有更優計算量測和整體
能力。不過還未公布 IAP 與合作夥伴會生產多少設備。
還有一個問題，就是晶圓廠設備不只微影曝光設備，還有其他設備負責蝕刻、沉積、抗蝕
劑去除、計量和檢測等，俄羅斯也都沒有製造。還有一些不太先進的機器，如純氧和純水
生產系統，俄羅斯也沒有生產，還需在禁運國家之外，尋找晶圓所需矽晶圓材料。即使
IAP 設法做出微影曝光設備，仍需繼續做出其他設備，才能建造現代化晶圓廠。
心得/評論：
中俄兩國都打算啟動國家力量發展半導體
俄國看來比中國更誇張
中國半導體至少發展了30年，
2001年聯電到中國設廠後有了巨大的進展
但至今7奈米還是無法進入大量生產程度
俄羅斯看起來是想用跳級的方式進入
只是不清楚俄國的科技力有沒有到這個程度
(走私程度應該是有，但是端上檯面的技術力就很難說了)
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