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還記得去年夏天有個新聞是,
路上出現了幾台,價值 #台幣三十億 起跳的 #白色超長貨櫃車 嗎?
有人說,看到這個標誌的貨車最好閃遠一點,不然一不小心撞到,是絕對賠不起的。
今天就讓我們來聊聊這個神秘貨車背後的故事吧!
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🎥 影片重點節錄 🎥
📍 大約在 1990 年代左右,主流的「 #乾式曝光 」微影技術,就已經把光源的波長,從 436 奈米,逐漸縮短到 193 奈米的紫外光。
📍 但如果還想繼續縮短,把更精密的電路放到晶圓上,就會遇到「鏡片」在物理上的極限,這個 193 奈米的關卡,當時大家都認為很難突破。
📍 不過,當時台積電的研發副總經理 #林本堅 ,就與荷蘭的 #ASML 公司,共同研發出「 #浸潤式微影 」技術,把原先 193 奈米設備的鏡頭,浸到水裡。
📍 透過水的折射,巧妙地產生等同於波長 134 奈米的微影效果,成功突破了「 #乾式微影 」的極限,讓整個產業的技術又能夠持續演進下去。
📍 這個「浸潤式微影」的技術一直發展下來,最關鍵的突破,就是縮寫是「 #EUV 」的「 #極紫外光 」技術了。
當年透過水的折射,產生 134 奈米的微影效果,就已經是很了不起的技術成就了,那現在 ASML 精進到甚麼程度的技術了呢?現在就趕快點開下方影片,讓我們一起來看看吧!
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台積電浸潤式曝光 在 讀書e誌 Facebook 的最讚貼文
聖誕節,來讀一個溫暖的自傳
在台積電被尊稱為“護國神山”之際,同時又因中美半導體競爭的態勢,讓所謂的“曝光機/光刻機/EUV微影設備” 變成新聞當中會出現的名詞了。這本自傳的作者林本堅院士,是前台積電研發副總,也是發明並推廣浸潤式微影,把摩爾定律推進了七代的那一位。
但是很不同於許多在科技業界極具貢獻的大老,他從科技業退休非常乾脆,並且致力於作一位傳教士。從書中節錄他在台積電的退休歡送會中,張忠謀,蔣尚義,和魏哲家等人如何在致詞中描述他的為人,可以看出他真的是表裡一致的追求卓越,同時又謙遜不已,讓所有公司上下的同事打從心底的佩服。
這本自傳寫作的手法,很像國小國中時寒假作業指定閱讀的傳記😆。裡面也可以看出他科學人的性格,例如對每個環節都有很仔細的交代(連聯考的分數都記得一清二楚),還有用二進位的方式幫自己的孩子取名(然後孩子們也從善如流,用同樣的邏輯幫孫子們取名)。感覺他寫這個自傳,很大的成份是寫給自己的禮物,好像對於他人生各個階段都能夠忠心的完成,有所交代。
其中幾次轉職經驗他講到如何思考自己要做什麼,引用到聖經以斯帖皇后(拯救猶太人免於滅族)的故事 “焉知你得了王后的位份,不是為了現今的機會嗎?”。他講到不管你在什麼樣的角色和崗位中,應該多多去思考能夠有什麼樣的貢獻,幫助什麼樣的人,帶來什麼樣的影響?帶著這樣的眼光看待工作的時候,就有機會看到更多創造價值的可能性,像他所說 可以經歷一些“眼睛未曾看見,心也未曾想過的” 驚喜。
之前也讀過張忠謀的第一本自傳,非常期待他的下集要出現!
全文與相關報導的連結在部落格中👇👇👇
https://dushuyizhi.net/把心放上去-前台積研發副總林本堅自傳/
#台積電 #林本堅 #護國神山 #EUV微影設備 #把心放上去
台積電浸潤式曝光 在 國立清華大學National Tsing Hua University Facebook 的精選貼文
改寫半導體發展史 林本堅院士將任教清華
以浸潤式(Immersion)微影技術改寫全球半導體微影發展的台積電前研發副總經理、中研院院士林本堅,今年加入清華大學,擔任講座教授。林本堅說,除了專業知識外,他還要教學生如何「把心放上去」,解決未來將面對的各種難題。
林本堅去年底自台積電退休後,許多大學都紛紛登門拜訪,希望能延攬半導體界的「國寶」。清華則早在去年中就已經透過「侯金堆講座」極力爭取林院士加入清華研究團隊,終於獲得他的首肯。
林本堅表示,他原規畫退休之後,只做兩件事,就是傳福音及幫助人得到更豐富的生命,後來一想,教書也是幫助人得到豐富生命的好方法,「我在產業界服務了46年,學到很多,也希望能教給下一代。除了教導專業知識外,我更希望能激發學生創意,教導他們解決問題以及團隊合作的能力。
「不管遇到什麼問題,不能死守一種方法,要把心放上去,把問題解決。」林本堅說。過去半導體晶片製程主要採用乾式曝光,以空氣為鏡頭和晶圓之間的介質,使光罩上的圖形在晶圓上成像,但為了增加解析度而要把光源的波長從193奈米縮短到157奈米的時候,一直無法突破。林本堅創全球之先提出的浸潤式微影技術,則是以水為介質,在鏡頭和晶圓之間注入水,光的波長在水中縮短為134奈米,得以刻出更精密的晶片,這項創新也改寫了半導體業十幾年來的發展藍圖。
過去在業界時,林本堅就曾接觸過許多清華畢業生,在他眼裡,清華的學生深具學習精神,對研究特別積極。但他點出,學生在校常只為自己的成績競爭,但出了社會,更要學習互助合作、為團隊競爭,這也是他想教給清華學生的一項重要能力。
「不管遇到什麼問題,不能死守一種方法,要把心放上去,把問題解決。」林本堅說。過去半導體晶片製程主要採用乾式曝光,以空氣為鏡頭和晶圓之間的介質,使光罩上的圖形在晶圓上成像,但為了增加解析度而要把光源的波長從193奈米縮短到157奈米的時候,一直無法突破。林本堅創全球之先提出的浸潤式微影技術,則是以水為介質,在鏡頭和晶圓之間注入水,光的波長在水中縮短為134奈米,得以刻出更精密的晶片,這項創新也改寫了半導體業十幾年來的發展藍圖。
過去在業界時,林本堅就曾接觸過許多清華畢業生,在他眼裡,清華的學生深具學習精神,對研究特別積極。但他點出,學生在校常只為自己的成績競爭,但出了社會,更要學習互助合作、為團隊競爭,這也是他想教給清華學生的一項重要能力。
清華電機系主任徐碩鴻教授說,林本堅院士是改寫半導體歷史的巨擘,也是光學微影技術的先驅者,清華能夠延攬到這位謙虛又樂意傳授的國際人才任教,非常榮幸。
清華光電所長黃衍介指出,林本堅院士不僅曾在國際知識企業擔任重要職務,也擔任首屆國際微影和微機電科學期刊總編輯,為學術及實務表現傑出之國際知名學者,以其深厚實務經驗和學術實力,定會為清華的教學與研究帶來助益。
清華光電所自林本堅加入研究團隊後,已舉辦3場「林本堅院士學術沙龍」,邀請林本堅院士與清華教授討論光電領域發展以及微影製程研究。林本堅院士表示,清華光電所教授們的研究題目有些讓他很有興趣,希望未來能與教授合作,協助教授研究發展。
林本堅曾任職於IBM在美國的研究中心,帶領團隊創造出許多領先全球的技術,包括1.25微米、1微米、0.75微米、0.5微米、0.35微米的微影技術。在IBM工作22年後,林本堅選擇在美國自行創業將近10年。在台積電力邀下,林本堅於2000年加入台積電,並在2002年開始推動浸潤式微影技術,此項技術對全球半導體產業及台積電先進製程貢獻極大。他在台積電研發的期間帶領團隊從130奈米、做到90奈米、65奈米、40奈米、28奈米、20奈米、和16奈米,並開始研發10奈米、7奈米、和5奈米。
林本堅獲獎無數,曾10度獲美國IBM傑出發明獎、美國IBM傑出貢獻獎、2008年當選美國國家工程學院院士,因浸潤式微影技術的創新,獲頒2013年國際電機電子工程師學會(IEEE)西澤潤一獎、及2009 Cledo Brunetti 獎、2013工業研究院院士、2008 俄亥俄州立大學傑出校友、2004國際光學和光電學會(SPIE)的首屆Frits Zernike奬、2004潘文淵文教基金會研究傑出獎、2003 IEEE會士、2003 SPIE 會士;2014年獲選為中研院院士,為國內最高學術殿堂首位企業界院士。
https://www.youtube.com/watch?v=y8H5z3zPnC4&feature=youtu.be
台積電浸潤式曝光 在 志祺七七 X 圖文不符 Youtube 的最讚貼文
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#ASML #微影設備
各節重點:
00:00 開頭
00:56 IC晶片是怎麼製成的?
01:40 微影技術是什麼?
02:41 卡關20年的微影技術
03:56 最先進的微影技術EUV
04:56 集頂尖技術於一身的EUV
06:41 開放創新的ASML
08:12 我們的觀點
09:43 結尾
【 製作團隊 】
| 客戶/專案經理:Pony
|企劃:冰鱸、關節
|腳本:冰鱸
|編輯:土龍
|剪輯後製:絲繡
|剪輯助理:珊珊
|演出:志祺
——
【 本集參考資料 】
→半導體之島:https://bit.ly/3znkTK1
→【Did You Know? 如果EUV機台是印表機📄】:https://bit.ly/3khCXRF
→ASML in 1 minute:https://bit.ly/3nI3LNc
→Zoom in on the chip in your smartphone:https://bit.ly/3ErG4yj
→Be part of progress, work at ASML in Taiwan:https://bit.ly/3lCfU3D
→TRUMPF EUV lithography – This all happens in one second:https://bit.ly/3EsSOVG
→The Tech Cold War’s ‘Most Complicated Machine’ That’s Out of China’s Reach:https://nyti.ms/3tP9lyf
→挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程:https://bit.ly/2XlfyFY
→【一圖弄懂半導體】台積電與英特爾在追趕的奈米製程是什麼?:https://bit.ly/3EoKdTL
→半導體產業鏈簡介:https://bit.ly/2Xuo8Cw
→半導體解密:ASML光刻機憑什麼能一廠獨大?台積電總能買到最好的光刻機?ASML有對手嗎?:https://bit.ly/3zgyTWc
→EUV 極紫外光!一個你應該知道與 台積電 相關的技術:https://bit.ly/3EkWPeN
→「撞到要賠 30 億台幣的卡車!」台積電背後的「靈魂軍火商」求人才不惜下重本:https://bit.ly/3nGPFvp
→ASML來台設技術培訓中心!助攻台積電先進製程,年產360位工程師:https://bit.ly/3CkthMl
→EUV 設備每台重量高達 180 公噸,每次運輸必須動用 3 架次貨機:https://bit.ly/3tKgHDa
→工業技術與資訊月刊:https://bit.ly/3lACp8O
→EUV世代 ASML靠併購賺到關鍵技術:https://bit.ly/3tNJ8zU
→簡單的光學突破 3C 科技瓶頸:浸潤式微影:https://bit.ly/3nDvGxG
→摩爾定律的華麗謝幕:EUV微影機:https://bit.ly/3CjoWcd
→微影製程再進化!複雜電路的祕密:https://bit.ly/3Coosl4
→Materials challenge 193-nm optics:https://bit.ly/3lxYZyX
→深夜神秘貨櫃車解密 EUV體驗車今明停靠成大:https://bit.ly/3zj9Q4T
→ASML加碼台灣 大舉徵才600人:https://ctee.com.tw/news/tech/427933.html
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