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#1. 所謂MOSFET-閾值、ID-VGS特性及溫度特性 - 電源設計技術 ...
表達的方法有很多,可以將VDS=10V、ID=1mA時定義為MOSFET的導通狀態,將此時的VGS作為VGS(th),可以說值就介於3V~5V之間。
這裡介紹一個簡易測試MOSFET 臨界電壓的方法。對加強型NMOS 而言,所謂的. 臨界電壓是指VGS 大到剛好將電晶體啟動(turn on)的值,通常記做VT 或Vth。在on. 狀態的MOS, ...
#3. 理解MOSFET的VTH:柵極感應電壓尖峰,會導致直通損壞嗎?
如果這個過程中仍然有可能產生直通,那麼如何來解釋這個負的VGS波形?用什麼有效的方法,來判斷上、下管發生直通呢?
#4. MOS測試原理解析
廠內分析MOSFET異常方法 ... MOSFET是一种可以广泛使用在类比电路与数位电路的 ... 測試方法:. G,D 短接,DS端給電流,量測VTH=VGS=VD-VS.
要注意,若兩個柵極在管內斷極,可用元件代換法進行檢測。 (3)用感應信號輸人法估測場效應管的放大能力. 具體方法:用萬用表電阻的R×100 ...
#6. 請問一下mos的臨界電壓vt? - Analog/RFIC討論區 - Chip123 ...
通常新的製程都要先跑一下mos的i-v curve但mos的臨界電壓vt,都會隨電壓變動而有不同的vt值供給 ... 對呀MOS的vth會隨著製程電壓不同而有所變動
#7. MOS元件原理及參數介紹@ 電動產業的世界 - 隨意窩
MOS 元件原理及參數介紹MOS製程可以分成以下三種:pMOS、nMOS和CMOS。 ... 反過來說,若VGS<Vth,MOS就工作在截止區,此時通道截止且無電流通過,可視為開關在開路的 ...
#8. 非常實用!圖解功率MOS管的每一個參數! - 每日頭條
本文將探討如何在電壓控制電路中使用FET,分四部分連載,重點介紹幾種FET的使用方法。FET用作壓控電阻;FET用作電壓控制放大器和有源混頻器;FET用作壓控 ...
#9. 安捷倫科技- 參數量測手冊第三版 - Keysight
的移動性,並提高MOSFET 的驅動電壓(Vth)。在實際電路中,電晶體處於不斷迴. 圈運作,因此使用直流方法量測SOI MOSFET 並無法正確評估元件的電路內行為。
#10. MOS测试原理解析_百度文库
MOSFET -簡介▻ MOSFET定義及特點▻ MOSFET結構▻ MOSFET工作原理(NMOS) ... 該特性與溫度成反比• 測試方法: G,D 短接,DS端給電流,量測VTH=VGS=VD-VS • 測試目的: 1 ...
#11. 發展奈米探針與被動電壓對比技術應用到MOSFET 故障分析
MOSFET 為結構的故障元件適當隔離(isolation)並且正確測定出。 ... 圖2-3 NMOS 的汲極電流與汲極電壓之間在不同Vgs- Vth 的關係...…......32. 圖2-4 MOSFET 在線性區 ...
#12. CN103675398A - 一种nmos阈值电压测量方法
[0003] 现有技术中对MOS的阈值电压测量多采用线下(off-line)测量的方法,也就是分别 ... 直到产生饱和电流I时测量对应的栅极电压,作为MOS的阈值电压Vth,如图1所示。
#13. Re: [問題] MOS的一些問題- 看板Electronics - 批踢踢實業坊
引述《xuwei (歸零)》之銘言: : ※ 引述《iiiikkk (東森媒體科技)》之銘言: : : 請問MOS我讓它Vod>Vds>Vdsat, 並且Vgs<Vth : : 此時MOS操作 ...
#14. 金屬氧化物半導體場效電晶體 - 维基百科
金屬氧化物半導體場效電晶體(簡稱:金氧半場效電晶體;英語:Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,縮寫:MOSFET),是一種可以廣泛使用在模拟電路與 ...
#15. 功率MOS FET 应用说明
作为低电压驱动的方法,一般通过栅极氧化膜的薄化(栅极/源极耐压VGSS. 的额定值变低)来降. 低VGS(off) 。 VGS(off)具有大约–5mV/°C左右的负温度系数( ...
#16. MOSFET 電気的特性(静的特性)について Vth | 日本
添え字のthはThreshold voltage の略でソースとドレインの間に指定の電流が流れる時のゲート電圧です。 Vthの測定. 規定のドレイン電流IDになるように ...
#17. FETの使い方&選定ガイド | マルツオンライン
スイッチング用MOS-FETはG(ゲート)-S(ソース)間にしきい値電圧Vthを充分上回るゲート ... 速度として記載されている他、ゲートの駆動方法が大きく関係します。
#18. 富士IGBT 模块应用手册
第9 章评价、测定方法 ... MOSFET 的高速交换功能又有双极型晶体管的高电压、大电流处理能力的新型元件,今后将有 ... IGBT 的构造和功率MOSFET 的对比如图1-1 所示。
#19. 半導体の特性評価手法及び技術 - テクトロニクス
一デバイスで測定する方法について説明する。特に、ハードウェア接続 ... MOSFETのVTH値はしきい値電圧の特定の抽出方法によってはわずかに. 異なることがある。
#20. デバイス/モジュールの信頼性評価、電気的特性測定・評価
WLR評価のゲート酸化膜の電流電圧測定、測定回路図 ... その結果、MOSFET のしきい値電圧(Vth)および伝達コンダクタンス(gm)などの特性が ... 界面準位導出方法.
#21. 超低溫微波退火應用於超淺接面與P-MOS元件
圖6為P-MOS元件在Vds偏壓(-0.05Ⅴ)的傳遞特性。由此圖可知,當柵極電壓改變時,倒置層通道的大小也將改變,因此該測定方法可用來觀察開關元件的操作 ...
#22. 増大する微細 MOS トランジスタの特性ばらつき:現状と対策
キーワード:MOSFET, ランダム不純物ゆらぎ,特性ゆらぎ,しきい値電圧 ... 電圧(VTH)やドレイン電流が個々のトランジスタごとに異 ... 常に優れた方法である。
#23. [1]デバイス特性ばらつきの評価
でVth が上昇する特性を利用し、非選択MOSのソース端子に電圧を印加し、非選択時のオフ電流を抑制する. ことを特徴とする。 ... Vth測定方法:4端子モード/AMPモード.
#24. 富士IGBT 模块应用手册 - Fuji Electric Global
IGBT 模块的安装方法. ... IGBT 作为一种兼具功率MOSFET 的高速交换性和双极晶体管的高电压、大电流处理能力的 ... 门极串联电阻值(标准值记载在开关时间测定条件中).
#25. SIMSプロファイル補正方法の提案とSi-SiO - リコー
MOS トランジスタのVthの予測にはプロセスシミュレータによるチャネル部の不純物分. 布の正確な計算が不可欠である.しかしながら,シミュレータの測定値への合わせ込みは.
#26. Kazuo Terada's research works | Hiroshima City University ...
Study on effective MOSFET channel length extracted from gate capacitance ... 簡単にしきい値電圧の標準偏差を測定する方法を提案し、その実現可能性を調べる。
#27. 実時間、および、低温チャージポンピング法 に関する研究
界面欠陥密度を評価するために用いられる CP 法の基本原理と、CP の測定方法(従来法). について N 型 MOSFET を例に挙げて説明し、その後、CP 中のパルス 1 周期での ...
#28. 第 6 章 MOSFET
MOSFET はさながら西の横綱といったところであろう。MOSFET は理解する過程 ... FET を用いた電子回路の計算方法は他書 ... 圧を MOS にかけて、高周波電流を測定し、.
#29. CN106449632A - 阵列列积分器- Google Patents
如Rothberg所述,由于ISFET的阈值电压Vth对离子浓度敏感,源电压Vs提供与在ISFET ... [0053]图36解释了根据本发明的一个实施方案,用于产生化学检测电路输出的方法。
#30. mosfet 電流公式
Fuji Power MOSFET 電力計算方法MOSFETを使用する上で許容される損失を超えていないか確認する必要があります。しかしMOSFETの損失は電力計などによる測定ができない ...
#31. MOSトランジスタの基本特性 - 卒 業 研 究 報 告
方法. 3.MOSトランジスタの基本特性. 3−1.ドレイン電流特性 ... MOS トランジスタのしきい値、移動度、基板バイアス効果などを測定し、.
#32. 112G PAM4 正在雲端資料中心崛起 - EDN Taiwan
方法 ,可協助OEM用X光辨識假冒元件。 https://goo.gl/4R3mC4 ... 精確的氡活性測定。 自製吸錫線夾具測量旁路 ... 意,P通道MOSFET的閾值電壓是負電壓(Vth<0V)。
#33. ゲート酸化膜欠陥に起因する集積回路の信頼性 と実測評価
に電圧が印加された ON 状態である MOSFET の特性が劣化するため,CMOS 構 ... SRAMなど実際のアプリケーションで用いられる制御方法により測定を行う[19].
#34. MOSFET 超小型DIPIPM アプリケーションノート - 三菱電機
正確なTcを測定. するためにヒートシンクを加工し、チップ直下に熱電対がくるようにします。 P側とN側で制御方法が異なるなどの場合には、最もTcが高くなる点が上記とは ...
#35. MOSFET の容量特性からのパラメータ 抽出法に関する研究 ...
この測定方法を用いた理由は,. サブフェムトオーダーの分解能まで測定可能な方法だからである. ... 一つであるしきい値電圧(VTH)の抽出を行った.
#36. SBD内蔵で信頼性を向上させた 1.2 kV SiC MOSFET - 東芝
ルミネセンスと呼ばれる測定方法を用いて,SiC上に試作し ... 東芝デバイス&ストレージ(株)は,耐圧1.2 kVのSiC MOSFETにSBD(Schottky Barrier Diode)をpn ...
#37. 長時間ストレスしきい値電圧変動に対する測定法の影響 - Confit
【実験方法】本研究では市販の SiC-MOSFET に対して、以下に示す 2 手法を用いて Vth 変動評価. を行った。 ① SWEEP 法:ゲートバイアスストレスを印加する前後 ...
#38. MOSトランジスタのサイズと特性 - CQ connect
これらのトランジスタのドレイン・ソース間に,5Vを加えた状態で,ゲート電圧を0Vから1Vまで変化させ,それぞれのドレイン電流を測定しました.その測定結果として適切 ...
#39. 1 (S1) 2 (G1) 3 (D2) (D1) 6 (G2) 5 (S2) 4 - Farnell
Note: 測定方法は、日本工業規格 JIS C 7030 トランジスタ測定方法による。 Measuring methods are based on JAPANESE INDUSTRIAL STANDARD JIS C ...
#40. MOS トランジスタのVTHの計り方 - 教えて!goo
>VTHを取得する方法はご丁寧な解説でだいたいわかってきたのですが、なぜこの方法でVTHが測定できるのか解説をお願いできないでしょうか?申し訳 ...
#41. 論 文 - 大阪大学リポジトリ
価できる回路方式を提案する.これにより,MOSFET. の Vth や gm のマッチング特性を評価することが可能 ... 図 4 被測定 MOSFET のドレーン/ソース電圧の参照方法.
#42. アプリケーション・ノート:AN-1084
ダイオード. の耐圧です。パワーMOSFET の. 電流-電圧特性が図 6 です。 BVDSS は通常、ドレイン電流. 250μA で測定します。ドレイ. ン電圧が BVDSS より低く、かつ.
#43. 半導体工学(13)
N型MOSトランジスタのドレイン電圧依存性. ・線形状態:VDS<VGS – Vth. ・飽和状態:VGS - Vth<VDS. ドレイン電圧(VDS) ... P型MOS構造のエネルギーバンドのVGS依存性.
#44. SK8403170L
MOS FET. SK8403170L. □ 電気的特性 Ta = 25 °C ± 3 °C. 注:. 1. 測定方法は、日本工業規格 ... Vth. ID = 2.56 mA, VDS = 10 V. 1.3. ドレイン・ソース間オン抵抗.
#45. MOSトランジスタの信頼性モデリング - 群馬大学 小林研究室
Negative Bias Temperature. Instability (NBTI). • 高温状態で,MOSFETのゲート電圧が負にバ. イアスされて起きるので,Pch-MOSFETで発生.
#46. しきい値電圧自己調整 MOSFET および SRAM セルの ... - CORE
また,低速測定においてはオフ時の高 Vth とオン時. の低 Vth を結んだカーブになっていることがわかる.以上のこと. から,Vth 自己調整機能と理想のヒステリシス特性が ...
#47. Design with GaN Enhancement mode HEMT
ゲートの動作は、MOS FETと同様であるが、優れたスイッチング性能を実現する ... ここでは、ミラー効果の抑制やゲートのリンギングを低減方法を述べ、 ...
#48. 動作原理 MOSFETの動作原理
理想MOS構造の仮定: ・シリコンと金属の仕事関数が等しい。 ・界面を含む酸化膜中に余分な電荷が ... MOSFETはしきい電圧の ... =VTH. ゲートとドレ. インの電圧差.
#49. 使用雷射退火之鍺基底N 型 - 中華大學
近來鍺在MOSFET 的應用上愈見廣泛,因為鍺具有較小的能隙(EG)及相對於矽 ... 學習生涯中,學習到研究應有的態度和方法,也使得我在專業領域的研究上獲益匪淺。
#50. MOSFETの静特性【Vgs-Idと出力特性から飽和領域と ...
静特性(入力と出力特性)の測定方法 ... よって、入力特性のグラフから、ID=0となるVGSの電圧がVthになります。 よくある質問3: MOSFETには、 ...
#51. AN-1001 了解功率MOS 规格参数
Page 1. www.taiwansemi.com. AN-1001. 了解功率MOS 规格参数. Page 2. Taiwan Semiconductor. 1. Version: A2012. 目录. 1. 绝对最大额定值.
#52. 3 章 微細デバイスの諸問題 - 電子情報通信学会知識ベース
うに MOSFET の活性領域の表面にドーピングを行い,基板濃度を高めて空乏層幅を短くする. ことである.しかし,この方法ではすべてのチャネル長において Vth が大きく ...
#53. 集積回路における性能ばらつき解析に関する研究
製造可能な最小のゲート長,3σL はゲート長のばらつき,VDD は電源電圧,VTH は ... トランジスタ特性については,多数の電流電圧特性を測定することにより MOSFET モ.
#54. MOSFETの『ゲートしきい値電圧』について! - Electrical ...
VGS(TH)、VTH、Vthなどで表されます。このしきい値電圧はMOSFETのデータシートの電気的特性欄に記載されています。 ... 測定条件を見ると、.
#55. はじめてのMOSFET | テクニカルスクエア | 丸文株式会社
MOSFET にはNチャネルとPチャネルがあります。チャネルの違いにより、電圧の加え方が異なります。 MOSFETのデータシートのスペックは ...
#56. 104 年原子能科技學術合作研究計畫成果發表會論文集
變化環境溫度與電子卡片量測相結合的測試方法,並驗 ... 半導體(MOS)元件的輻射效應機制,其主要之機制為控 ... 與對稱性及輻射旋轉中心測定亦符合法規規定標準。故.
#57. MTM86124 - Panasonic Industrial Devices
シリコンPチャネルMOS FET ... VTH. ID = -1.0 mA, V. mA, VDS = -10 V ... 測定方法は,日本工業規格JIS C 7030 トランジスタ測定方法によります。 2. *1: パルス測定.
#58. MOS トランジスタのスケーリングに伴う 特性ばらつき 1.
各チップの. 万個のトランジスタアレーを測定. それぞれのデータ点は近隣の. 個のトランジスタの平均値である. CMOS デバイスの微細化に伴う特性 ...
#59. FKV575 - サンケン電気 半導体デバイス
MOS FET. FKV575. 2008 年 11 月. サンケン電気株式会社 http://www.sanken-ele.co.jp ... 図1 アバランシェエネルギー耐量 測定方法. (a) 測定回路. (b) 出力波形.
#60. Vth | 株式会社デプロ
半導体デバイス測定に関する翻訳で、Vthという言葉がよく出て ... 金属酸化膜半導体)構造のトランジスタ(MOSFET、FETはField Effect Transistor( ...
#61. Wolfspeedシリコンカーバイド製MOSFETを使用した一般的な ...
ターンオンとターンオフはSi製デバイスで使用される従来の方法で測定されます。波形(図2)をよく見ると、実際のシミュレーションと理想的な ...
#62. 平成 22 年度修士論文 完全空乏型 SOI MOSFET における ...
Vth. Fig. 3.12 RTN によるしきい値電圧変動(ΔVth)の算出方法. 本実験の解析方法は、4 端子電極を有する MOSFET の測定の方法とほぼ同じであるが、.
#63. 最大接合温度(ジャンクション温度) | SiCアライアンス
ダイオード及びIGBTにおいて最大接合温度の測定方法としてよく使用されているのは、 ... MOS系デバイスではスレッシュホルド電圧(Vth)を計測する方法も使用される。
#64. Wolfspeedシリコンカーバイド製MOSFETを使用した一 般的な ...
Wolfspeedシリコンカーバイド製MOSFETを使用した一 ... フはSi製デバイスで使用される従来の方法で測定されます。 ... しきい値電圧VTHと違いによる電流の不均衡.
#65. 微細MOSFETにおける ランダム・テレグラフ・シグナルの ...
∆Vth のばらつきは対数正規分布に従う. ... フラッシュメモリでの∆Vth の測定値. (H.Kurata et al. VLSI Circ. Symp. 2006) ... 不純物濃度の設定方法.
#66. 平成20年度 故障物理研究委員会研究成果報告書 - 日本電子 ...
5.3.2 早い成分と遅い成分の分離測定方法. ... 3.1 Vth の変動 . ... 5.1 MOS トランジスタのパラメータ依存性(サイズ、動作電圧).
#67. Title 高密度MOSデバイスにおける,衝突電離に起因した特性劣 ...
響を解明し、改善方法を検討しようとするものである。 27),28),33) ... 性がMOSトランジスタにおけるVTH シフト特性から良く説明できることを示す。 また, アクセスタ.
#68. Nch MOSFETのVthの求め方 - OKWave
トランジスタ技術 1999年3月よりMOSFETのゲートしきい値電圧の測定回路においてMOSFET:2SK2614 RL:500Ω RG:100Ω VDD:15V VGG:可変まず電源電圧を15V ...
#69. MOSFET-Spice パラメータ設定
Vth (off). 手順 1. FET に電流(1mA)が流れる時の. ゲート電圧であるので、図 2.1 の. 回路で VTO を変えながら Vgs-Id. 特性を測定し、1mA 流れる.
#70. VIH/VIL/VOH/VOL って何? - 半導体事業 - マクニカ
図5 は、CMOS の回路図です。p チャネル MOS (pMOS) と n チャネル MOS (nMOS) が上下にに重なった形です。アメリカ先住民が用いている彫刻のトーテム ...
#71. (2) MOS FET
かといって,絶縁膜を別途. 堆積させても,シリコンのような高品質界面が形成できない. しかし,電子の移動度はSiよりも1桁高い. MIS FETで攻めるのではなく,他の方法 ...
#72. eGaN® FETドライバと レイアウトの考察 - EPC Co
ています。2番目のゲートのしきい電圧も、ほとんどのパワーMOSFETと比べて低いですが、MOSFETのように ... CGD x dv/dt x (RG + RSink) x (1 – e - dt / a) < VTH (1).
#73. 4. 半導体デバイスの故障メカニズム
半導体デバイスの信頼性を扱う場合、統計的方法のほかに故障を物理的観点から ... 電荷を形成し、MOS FET のしきい値電圧(Vth)および伝達コンダクタンス(gm)などの ...
#74. MOSFETとは | 半導体製品 | 新電元工業株式会社- Shindengen
G-S間に電圧を印加すると、D-S間が導通状態になるスイッチ. MOSFETにはNチャネル型とPチャネル型があります。 Nチャネル(N-Ch ...
#75. nMOSトランジスタのばらつきは不純物だけでは決まらない
100万個のトランジスタについて測定したVthを、累積頻度を示すワイブル ... のばらつきσ(標準偏差)とゲート長Lとゲート幅Wで表す方法があるが、これ ...
#76. 博士論文 小型アナログ IC に関するパッケージ起因応力の ...
パッケージ工程によってシリコンチップに発生する応力の測定方法としては, ... 化膜の容量,Vgs はソースを基準にしたゲート端子への印加電圧,Vth は MOSFET の閾値 ...
#77. 急峻なサブスレッショルド特性を持つ “PN-body tied SOI-FET ...
第 2 章 デバイス作製方法及びシミュレーション方法 .................... 33 ... MOSFET において Ileak と Vth はサブスレッショルド特性によって決まる. サブ.
#78. 第24回 MOSFETの基本を理解する:Analog ABC(アナログ ...
本連載の第5回「トランジスタには接続方法が3つ」で説明した、バイポーラトランジスタの「飽和領域」とは、まったく逆なので、要注意です。 MOSFETを ...
#79. SPring-8 高速パルスキッカードライブ電源用 MOSFET の耐 ...
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MOSFET 栅极至衬底电容测量极为重要,因为它是计算许多重要参数, 如衬底杂质浓度(Nsub) 和平能带电压(Vfb) 的唯一方法。我们用参数计算例子说明如何 ...
#81. 盤點功率MOSFET典型應用的28個問題 - 今天頭條
理解MOSFET 的VTH:柵極感應電壓尖峰,會導致直通損壞嗎? ... 的振蕩波形,對於一個電源的工程師來說,經常看到,在這裡首先談一下測量方法的問題:.
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#85. HSPICE中如何测量单个MOSFET的阈值电压 - EETOP
HSPICE中有.print vth(nmos) 和.pirnt lv9(nmos) 的指令,不知道这两句是怎么获得MOSFET阈值电压的?准确吗?求大佬解答!大家都是用什么方法得到MO .
mos vth測定方法 在 Re: [問題] MOS的一些問題- 看板Electronics - 批踢踢實業坊 的必吃
※ 引述《xuwei (歸零)》之銘言:
: ※ 引述《iiiikkk (東森媒體科技)》之銘言:
: : 請問MOS我讓它Vod>Vds>Vdsat, 並且Vgs<Vth
: : 此時MOS操作在sub-threshold 區
: : 若電路是current mirror, 會影響到mismatch嗎(如果我給它W*L很大也沒用嗎)?
: : 就我所知Vds>Vdsat就會在是saturation (velocity saturation)
: : 是否一定要將Vds>Vod才安全?
: Mismatch來源
: 1. Beta 2. Vth
: 若操作在subthreshold 區,造成Vgs-Vth<0,造成Vth mismatch這一項變大
: 當然你可以將W*L 取很大將Beta mismatch降低,但是這跟Vth mismatch是兩件事
: 所以囉~對於current mirror設計還是設計在W*L相同的前提下降低W,增加L方式
: 讓它們操作在strong inversion區吧~
: 當然啦~ 進一步降低current mismatch還可以用cascode方式,這些Razavi書上都有講
: 至於LDO喔~ 隨便啦,bias current就算變個+-10%也沒差
很多人對subthreshold region有迷思
尤其是做高速電路大電流習慣的人 聽到Vgs<Vth就覺得你在亂做
MOS根本打不開
而事實上在很多low-power的應用
好啦,uA甚至nA等級的電流對於他們的確是沒有打開XDD
首先要先知道,subthreshold region不可以用二次方公式代
他在first order是一個BJT的exponential model
在 Vgs - Vth < 0 時仍然可以得到正確的電流值
而由於真實的模型過於複雜,我們設計電路一定是看gm/Id這個parameter
gm/Id大表示電路在weak inversion而且不等於2/Vov因為Vov是負值
在二次方公式內若Vgs很靠近Vth會得到無限大的gm這件事情不存在
gm/Id在MOS很難超過25,在電流nA等級才有機會超過30
而gm/Id小表示電路在strong inversion,即一般俗稱saturation region
--
為什麼要看gm/Id? 這對理解mismatch有直接的幫助
用二次方甚至exponential公式去看mismatch的影響比較複雜一些
不如假設電路都在我設定好的操作點去看mismatch,所有的影響都變成一階
首先要先知道 δβ/β 以及 δVth 都跟物理大小(面積根號)直接成反比
beta對電流的影響是直接的,電流轉換成Vos就是除以一個gm
(δI/I) = (δβ/β) yields Vos = (δβ/β)*(I/gm)
Vth對Vos的影響是直接的,轉換成電流的變異就是乘以一個gm
δVos = δVth yields (δI/I) = (δVth)*(gm/I)
對於OP的input pair來講,我們關注的是Vos
若電路操作在weak inversion,I/gm很小,δβ/β的影響微乎其微
所以可以斷定 δVos = δVth
對於current mirror來講,我們關注的是(δI/I),也就是電流偏移比率
從β來看,假設你的物理大小讓β有1%的mismatch,那電流的mismatch就是1%
從Vth來看,1mV的offset在gm/Id = 25的情況下會直接導致2.5%的mismatch
而在gm/Id = 10的情況只會導致 1%
所以你應該想辦法去降低gm/Id,也就是讓電路操作在strong invertion比較好
--
最後講到很多人的迷思
假設我們永遠都用二次方公式來看mismatch,而且Vth永遠都是500mV
而且Vth的變異量都是1mV
甲同學設計Vgs = 600mV 乙同學設計Vgs = 501mV
根據二次方計算的結果,乙同學的mismatch會導致他電路完全不會動
但是根據實際的model,乙同學可能只比甲同學多了2%的誤差
這一切都是沒有考慮gm/Id惹的禍
當然讓電路操作在strong inversion有其他好處
比如你Rout變大,這正是所有current mirror應該有的理想特性
只是weak inversion,真的,沒那麼嚴重,理論上啦
起碼目前我的電路做在50nA的地方都動得很好
至於obov大所提到的不被亂幹的問題
可能才是做電路最需要學習的
阿彌陀佛
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 27.105.1.245
※ 編輯: jamtu 來自: 27.105.1.245 (04/18 02:30)
請問一下什麼是sub-threshold swing?
嗯如果是differential跟負回授的電路 比較能夠抵抗製程變異的影響
因為最後誤差都是取決於負回授的比值 以及非理想效應的order
所以low power的電路用在sensor 不可能做single end
上面這個case用二次方公式來看
假設Vth有1mV的誤差而來到501mV,乙同學的電流就是0了
誤差比例無限大
這個case討論的是Id的變異
因果關係不太一樣
我們在電子學裡是得到 gm/ID = 2/Vov
依照這個特性,當VGS很靠近Vth時,gm/ID會爆衝到無限大
完全違背了事實
所以我們必須先假設我們不懂實際的model
但是我們知道在某一個操作點附近,做了小信號模型而產生了gm/ID這樣的東西
那麼輸入端兩邊電壓不匹配,直接乘以gm就是電流的不匹配
你講的沒有錯
所以我強調我是用"小信號分析"的觀點去看
小信號分析的精髓是,先假設他們都在同一個操作點
offset並沒有讓他們操作點出現了偏差 <=> 他們操作的偏差可以用offset表示
... <看更多>